KRI 考夫曼离子源

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源 Gridded 和霍尔离子源 Gridless. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射沉积 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源 (离子枪) 中国总代理.
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考夫曼离子源创始人 Dr.Harold R.Kaufman 简介
1926 年在美国出生 |
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KRI 考夫曼离子束中和器
一般使用宽束的工业用离子源,都会使用中和器来达到使用激发电子中和离子的目的。常用来做中和器的像是热灯丝,电浆桥,或是中空阴极。图1的架构可适用于有栅极及无栅极的离子源上。若是应用在无栅极的离子源上,中和器称为阴极中和器。标的物可以是溅镀的靶材或是要被蚀刻的基材。
KRI 考夫曼离子源 KDC 10
考夫曼型离子源 KDC 系列最小型号的离子源 |
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